「電子材料」「機能性材料」を
受託フォロー・調達によって製品をお届けします。
国内提携協力会社・中国提携協力会社による各種原料の受託合成を行っております。
お客様情報の秘密保持管理を徹底し、多様な合成・加工反応に対応する設備機器を備えております。
| 光学活性化合物の合成 | アシル化 | アミノ化 |
| アルキル化 | アルキル金属の反応 | エステル化 |
| エーテル化 | スルホン化 | ヒドロキシル化 |
| ホウ酸化 | ニトロ化 | 金属水素化物の反応 |
| Friedel-Crafts反応 | Grignard反応 | Horner-Emmons反応 |
| Suzuki反応 | Wittig反応 | Buchwald-Hartwing反応 |
※未経験反応についても文献調査の上対応致します。
| 1000L | SUS | 0℃～120℃ 加温：温水、スチーム 冷却：ブライン | 1基 |
| 500L | SUS | ー5℃～20～120℃ 加温：温水、スチーム 冷却：水冷 | 1基 |
| 300L | SUS | 5℃～120℃ 加温：温水、スチーム 冷却：ブライン | 1基 |
| 300L | SUS | 30℃～250℃ 加温：熱媒 冷却：外部水冷 | 2基 |
| 1000L | GL | ー5℃～120℃ 加温：温水、スチーム 冷却：ブライン | 1基 |
| 500L | GL | ー5℃～120℃ 加温：温水、スチーム 冷却：ブライン | 1基 |
| 200L | GL | ー5℃～120℃ 加温：温水、スチーム 冷却：ブライン | 2基 |
| 200L | GL | ー5℃～120℃ 加温：温水、スチーム 冷却：ブライン | 1基 |
| 100L | GL | ー60℃～240℃ 加温：電気ヒーター(油浴、水浴) 冷却：冷媒 | 組立式×1 |
| 100L | SUS | ー60℃～240℃ 加温：電気ヒーター(油浴、水浴) 冷却：冷媒 | 組立式×1 |
| 50L | GL | ー60℃～240℃ 加温：電気ヒーター(油浴、水浴) 冷却：冷媒 | 組立式×5 |
| 50L | SUS | ー60℃～240℃ 加温：電気ヒーター(油浴、水浴) 冷却：冷媒 | 組立式×3 |
| 30L | GL | ー60℃～240℃ 加温：電気ヒーター(油浴、水浴) 冷却：冷媒 | 組立式×1 |
| 24インチ | SUS | 遠心分離機 | 3基 |
| 65インチ | SUS | 減圧ろ過装置 | 6基 |
| 50インチ | SUS | 減圧ろ過装置 | 1基 |
| 60cmφ | SUS | シリカゲル 100kg | 1基 |
| 50cmφ | SUS | シリカゲル 40kg | 2基 |
| 20cmφ | SUS | シリカゲル 10kg | 3基 |
| 1㎥ | SUS | 温風循環(電気) | 4基 |
| 真空加熱乾燥機 | 3基 | ||
| 凍結乾燥機(VirTis) | 1基 |
| 2L | 2L ロータリーエバポレーター | 9基 |
| 10L | 10L ロータリーエバポレーター | 1基 |
| 20L | 20L ロータリーエバポレーター | 2基 |
反応釜
GL釜:80台，100L-5000L
SUS釜:21台 100L-3000L
高圧釜:2台，1000L
反応温度:from -100℃ to +250℃
液体窒素貯蔵タンク
20M3.
蒸留作業エリア
分子膜式蒸留:1セット
精密蒸留装置:13セット
5L:6セット 10L:2セット
20L:1セット 100L:1セット
300L:2セット 500L:1セット
コニカル真空乾燥機
3セット 1000L-5000L
クリーンルーム
10000クラス
排水処理所
2箇所
TEL:03-3256-2523
受付時間 9:00～17:30
